高分辨率纳米压印模板（Mold for nanoimprint lithography）采用*制造工艺，可把平面纳米压印拓展到任意曲面。标准模板分为三类：Quartz Molds, Silicon Molds, Polymer Molds of 2“、3“、4“。适用于Obducat，Suss，HP，EVG等多种型号的纳米压印设备。
高分辨率纳米压印模板（Mold for nanoimprint lithography）技术参数：
Deliveryofnanoimprinttemplatesinvariousmaterials（Si,SiNx,SiC,quartz,glass）.Maximumareaofthetemplates:4inchwithfeaturesizeof100nm.Forsmallerarea,minimumfeaturesizeof50nm.
提供各种材料的纳米压印模板（硅，氮化硅，碳化硅，石英玻璃）。模板zui大尺寸：4英寸，特征尺寸为100nm。对于更小的尺寸，zui小的特征尺寸可以达到50nm。
DeliveryofEBLserviceforvariousstructureswiththefeaturesizedownto30nm.Substrates:anyconductingornon-conductingwafers.
提供zui低30nm特征尺寸的各种结构的电子束刻蚀服务。基板：任何导电或者非导电晶片。
MicroandnanofabricationsforallkindsofnanostructuresinaSi,III-V,II-VIandpolymers.
各种纳米结构（硅，III-V族元素，II-VI族元素以及聚合物）的微纳米加工。
高分辨率纳米压印模板（Mold for nanoimprint lithography）主要特点：
softmoldforthermalnanoimprint热压印的软模板
quartzmoldforUVnanoimprint紫外压印的石英模板
siliconmoldforthermalnanoimprint热压印的硅模板
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