Lumina AT1光学表面缺陷分析仪可对玻璃、半导体及光电子材料进行表面检测。Lumina AT1既能够检测SiC、GaN、蓝宝石和玻璃等透明材料，又能对Si、砷化镓、磷化铟等不透明基板进行检测，其价格优势使其成为适合于研发/小批量生产过程中品质管理及良率改善的有力工具。
一、光学表面缺陷分析仪简介：
Lumina AT1光学表面缺陷分析仪可对玻璃、半导体及光电子材料进行表面检测。Lumina AT1既能够检测SiC、GaN、蓝宝石和玻璃等透明材料，又能对Si、砷化镓、磷化铟等不透明基板进行检测，其价格优势使其成为适合于研发/小批量生产过程中品质管理及良率改善的有力工具。
Lumina AT1结合散射测量、椭圆偏光、反射测量与表面斜率等基本原理，以非破环性方式对Wafer表面的残留异物，表面与表面下缺陷，形状变化和薄膜厚度的均匀性进行检测。
1.偏振通道用于薄膜、划痕和应力点；
2.坡度通道用于凹坑、凸起；
3.反射通道用于粗糙表面的颗粒；
4.暗场通道用于微粒和划痕；
二、功能：
主要功能
1. 缺陷检测与分类
2. 缺陷分析
3. 薄膜均一性测量
4. 表面粗糙度测量
5. 薄膜应力检测
l 技术特点
1.透明、半透明和不透明的材料均可测量，比如硅、化合物半导体或金属基底；
2.实现亚纳米的薄膜涂层、纳米颗粒、划痕、凹坑、凸起、应力点和其他缺陷的全表面扫描和成像；
3.150mm晶圆全表面扫描的扫描时间为3分钟，50x50mm样品30秒内可完成扫描并显示结果；
4.高抗震性能，系统不旋转，形状无关，可容纳非圆形和易碎的基底材料；
5.高达300x300mm的扫描区域；可定位缺陷，以便进一步分析；技术能力
三、应用案例
1. 透明/非透明材质表面缺陷检测
2. MOCVD外延生长成膜缺陷管控
3. PR膜厚均一性评价
4. Clean制程清洗效果评价
5. Wafer在CMP后表面缺陷分析
6. 多个应用领域，如AR/VR、Glass、光掩模版、蓝宝石、Si wafer等
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